事关EUV光刻机，荷兰ASML官宣新筹划，三星为虎傅翼

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原标题：事关EUV光刻机，荷兰ASML官宣新筹划，三星为虎傅翼

晶圆制程的不停微缩，导致半导体财产即将面对摩尔定律的物理极限。同时，也对芯片制造中不可或缺的装备的精度提出了更高的要求。

随着芯片制造精度的提拔，晶圆代工厂必要更多的高精度生产装备，即EUV光刻机。但环球范围内，唯逐一家可以或许量产EUV光刻机的只有荷兰巨头阿斯麦。

可阿斯麦的EUV光刻机年产量究竟有限，三星电子、台积电等代工巨头只能选择提前砸重金抢购。

就现在的EUV光刻机保有量来看，台积电领先于三星，具备更强盛的芯片量产本领。但日前荷兰阿斯麦官宣了事关EUV光刻机的新筹划，三星电子将为虎傅翼。

5月17日国外媒体报道称，阿斯麦公司将会在韩国华城设立EUV光刻机再制造工厂以及培训中央。

笔者相识到，为了此次建立新工厂，阿斯麦筹划投资2.12亿美元。在笔者看来，韩国方面想必也会给予阿斯麦肯定的补贴，究竟阿斯麦的入驻意义非凡。

阿斯麦在韩国建厂，有助于韩国本地芯片制造财产链的发展，可以或许让三星电子“近水楼台先得月”，抢购到更多数目的光刻机。

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而且，阿斯麦在韩国的培训中央还可以资助韩国芯片制造企业培训极紫外光刻机的操纵职员。总而言之，阿斯麦的入驻对于三星电子大概整个韩国半导体财产而言，可谓是百利而无一害。

要知道，现在三星电子对EUV光刻机有很大需求。一方面，三星正处于5nm芯片工艺的产能爬坡阶段；另一方面，三星3nm工艺的量产也必要充足数目的光刻机。

由于三星为了逾越台积电，在3nm工艺上冒险接纳了全新的GAA技能。

相比传统的FinFET工艺，GAA技能简直可以或许更为精准地控制跨通道电流。而且还可以在肯定水平上缩小芯单方面积，低落功耗。

但不成熟性会导致3nm芯片量产过程中，大概发生一些不测环境。因此，三星必要在短时间内完成3nm GAA芯片的产能爬坡，否则会亏损。

必要留意的是，环球仍旧在连续的缺芯潮，也是三星等企业对EUV光刻机需求较大的缘故原由之一。

假如阿斯麦建厂的活动可以或许切实资助到三星电子，那么在IBM、英特尔、三星三巨头同盟的环境下，台积电无疑会蒙受更大的竞争压力。

在你看来，台积电多年的霸主职位会被三星动摇吗？返回搜狐，检察更多

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