上海新阳又买了台二手ASML光刻机，可用于研发28nm高端光刻胶 ...

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原标题：上海新阳又买了台二手ASML光刻机，可用于研发28nm高端光刻胶

上海新阳又买了台二手ASML光刻机，可用于研发28nm高端光刻胶

上海新阳(300236)本日公告，由上海芯刻微质料技能有限责任公司委托盛吉盛（宁波）半导体质料有限公司署理投标，乐成中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该装备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

3月11日，芯刻微公司向盛吉盛付出10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动装备的运输及相干安装调试等工作。

上海新阳表现，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产物技能要求高、投资需求大，公司为加快集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化历程，淘汰上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微举行Ar湿法光刻胶的研发，并与协议各方答应将来通过向上市公司举行股权转让或技能转让等方式制止大概的同业竞争。

客岁8月份，上海新阳与芯刻微、上海超成质料科技有限公司签订了《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，上海新阳持有芯刻微 38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司举行ArF湿法光刻胶的研发。

上海新阳作为国内集成电路制造关键工艺质料供应商，自主项举行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外把持，实现集成电路高端光刻胶质料的国产化作为发展目的，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技能与产物的突破。

通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了焦点技能专家团队，为ArF湿法光刻胶项目标开辟提供了技能保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机装备是对公司ArF湿法光刻胶技能先辈性的装备保障，对加速公司集成电路制造用光刻胶产物研发项目进度有积极影响，有利于进一步提拔公司光刻胶产物的焦点竞争力，加快落实公司发展战略。

上海新阳表现，光刻胶产物在集成电路质料中技能难度大，质量要求最高，开辟周期长， 且焦点技能及原质料险些被国外厂商所把持。因此，存在着研发失败和研发筹划滞后的风险。

这次购买的二手装备，重要用于Ar湿法光刻胶研发，此前采购装备用于干法光刻胶的研发。

1月5日，上海新阳公告称，自主项开辟193nm ArF干法光刻胶的研发及财产化项目以来，根据项目进度，筹划安排购买了ASML-1400光刻机等焦点装备。上周， 上海新阳曾发布公告，公司自主项开辟193nm ArF干法光刻胶的研发及财产化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等焦点装备，装备已进入北方集成电路技能创新中央(北京)有限公司的园地。

近期不少上市公司都在购买光刻机。2021年1月19日晚，晶瑞股份公告称，经公司多方协商、积极运作，顺遂购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。3月3日晚，中芯国际发布公告称，2021年2月1日，其与光刻机装备大厂阿斯麦（ASML）签署了批量装备采购协议，协议的限期从原来的2018年1月1日至2020年12月31日，延伸为从2018年1月1日至2021年12月31日。根据此批量采购协议，订单总金额约12亿美元。别的英诺赛科本年也公布购入光刻机装备。

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